Si$O_{2}/{Si}_{0.7}{Ge}_{0.3}/SiO_{2}$계에서의 계면응집현상에 의한 양자점 형성에 관한 연구

윤태식 ,  권장연 ,  이동훈 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

Passivations of High-Voltage Planar Devices Using SiO2-Si3N4-SiO2 Film

김병철 ,  윤동현 ,  이종홍 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Capacitance-Voltage Characteristics in the Double Layers of SiO₂/Si₃N₄

洪能杓 ,  洪眞雄

전기학회논문지 C

2003 .10

A Study on Determination Method of Lifetime and Supply Voltage of thin SiO2

하대남 ,  김동욱 ,  유종근 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

Growth and Analysis of Intermediate SiO2 for the CeO2 / SiO2 Structure

김종걸 ,  한기평 ,  송인재 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

CaO/SiO₂, SiO₂/Al₂O₃, Fe₂O₃/SiO₂ 비 변화에 따른 소각전처리 없는 건조슬러지의 용융특성 및 냉각조건 변화에 따른 슬래그특성

배정석 ,  이상원 ,  염훈식 외 2명

대한환경공학회 학술발표논문집

2008 .12

Kinetics of Charge Accumulation and Decay on Silicone Rubber/SiO₂ Nanocomposite Surface

Yong Liu ,  Zhong-Lei Li ,  Bo-Xue Du

Journal of Electrical Engineering & Technology

2016 .09

Electrical Characteristics of Thin SiO₂ Layer

Nung-Pyo Hong ,  Jin-Woong Hong

KIEE International Transactions on Electrophysics and Applications

2003 .04

A Study on the Temporal Behavior of the Wall Voltage in a surface-type AC panel

Kim ,  Jung-Hun ,  Lee 외 5명

한국정보디스플레이학회 학술대회

2000 .01

SIMS를 이용한 SiO₂/PSG/SiO₂/Al-1%Si 및 SiO₂/TEOS/SiO₂/Al-1%Si 적층 박막내의 Na 게터링 분석

김진영

한국표면공학회지

2018 .04

Components of XLPE and Charge Accumulation Characteristics

노진서 ,  서광석

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1993 .04

$SiO_2$ RF Power와 증착 시간 변화에 따른 고유전 $TiO_2-SiO_2$ 절연막의 특성

김성연 ,  함문호 ,  명재민

한국재료학회 학술발표대회

2007 .01

Charge Accumulation Characteristics in Glass under Electron Beam Irradiation

최용성 ,  이경섭 ,  황종선

대한전기학회 학술대회 논문집

2008 .11

N₂O 가스에서 열산화한 SiO₂막의 특성

김동석 ,  최현식 ,  서용진 외 3명

대한전기학회 학술대회 논문집

1992 .07

Charge Accumulation in Glass under Electron Beam Irradiation

조재철 ,  황종선

대한전기학회 학술대회 논문집

2008 .09

SiO₂포켈 소자를 이용한 광전압센서

신건학 ,  추진부 ,  조홍근 외 4명

대한전기학회 학술대회 논문집

1991 .07

휴대용 고압 기기에 적합한 커패시터 충전 속도 향상 방안

김철진 ,  홍성호 ,  이수랑 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

2007 .04

RF 스퍼터링을 이용한 SiO2 / Ta2O5 , SiO2 / ZrO2 박막의 무반사 특성 ( Anti-Reflection Characteristic of SiO2 / Ta205 , SiO2 / ZrO2 Film using the RF Sputter )

이풍엽 ,  임우택 ,  이진규 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1992 .11