레이저 예열에 의한 Si₃N₄ 세라믹스의 선삭가공

김선원; 이제훈; 서정; 신동식

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 김선원 이제훈 서정 신동식

저널정보: 대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2007년도 춘계학술대회 강연 및 논문 초록집

발행연도: 2007.5

수록면: 2,277 - 2,282 (6page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2007

HPDL의 예열에 의한 Si₃N₄ 세라믹스의 선삭 가공

김선원 , 이제훈 , 서정 외 1명 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 2007.06 학술대회자료

레이저 예열에 의한 Si₃N₄ 세라믹스의 선삭가공

김선원 , 이제훈 , 서정 외 1명 대한기계학회 춘추학술대회 2007.05 학술대회자료

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Silicon Nitride (Si₃N₄), which is widely used in a variety of applications, is hard-to-machine due to its high hardness. At high temperature (e.g. above 100℃), however, the machinability can be greatly improved. In this work, we used a CO₂ laser with a high absorptivity to Si₃N₄ of 0.9 to preheat the surface of a rotating Si₃N₄ rod. Preheating and turning of Si₃N₄ was executed at the same time. The result of machining was MRR of 8.0㎥/s that is four faster than normal grinding. Continuous chip formation was observed by a microscope.

#CO₂ Laser(CO₂ 레이저) #LAM(레이저 보조가공) #Si₃N₄(질화규소)

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