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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2006.10
- 수록면
- 211 - 213 (3page)
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In this study, plasma etching process was modeled by using support vector machine (SVM), The data used in modeling were collected from the etching of silica thin films in inductively coupled plasma. For training and testing neural network, 9 and 6 experiments were used respectively. The performance of SVM was evaluated as a function of kernel type and function type. For the kernel type, Epsilon-SVR and Nu-SVR were inc^_@span style=color:#999999 ^_# ... ^_@/span^_#^_@a href=javascript:; onclick=onClickReadNode('NODE01346086');fn_statistics('Z354','null','null'); style='color:#999999;font-size:14px;text-decoration:underline;' ^_#전체 초록 보기^_@/a^_#
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험 데이터
3. 모델링 성능
4. 결과
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