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- Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering Vol.33 No.1
- 발행연도
- 2016.1
- 수록면
- 11 - 16 (6page)
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Lithography techniques are generally used to manufacture nano-patterns on silicon, however, it is difficult to make a V-shaped pattern using these techniques. Although silicon is a brittle material, it can be treated as a ductile material if mechanically machined at extremely low force scale. The manufacturing technique of nano-patterns on single crystal silicon using a mechanical method was developed in this study. First, the linear pattern was machined on the silicon with increasing thrust force. Then, the correlation between measured cutting force and machined pattern was analyzed. Based on the analysis, the critical thrust force was quantitatively determined, and then the silicon was machined at a force lower than the critical thrust force. The machined pattern was observed using SEM and AFM to check for the occurrence of brittle fractures. Finally, the sharp V-shaped nano-pattern was manufactured on the single crystal silicon.
목차
1. 서론
2. 나노스크래치 테스터
3. 실험방법
4. 실험결과 및 고찰
5. 결론
REFERENCES
참고문헌 (14)
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Zhang, W. and Chou, S. Y., “Fabrication of 60-nm Transistors on 4-in. Wafer Using Nanoimprint at All Lithography Levels,” Applied Physics Letters, Vol. 83, No. 8, pp. 1632-1634, 2003.
Bogaerts, W., Wiaux, V., Taillaert, D., Beckx, S., Luyssaert, B., et al., “Fabrication of Photonic Crystals in Silicon-on-Insulator Using 248-nm Deep UV Lithography,” IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics, Vol. 8, No. 4, pp. 928-934, 2002.
Revzin, A., Russel, R. J., Yadavalli, V. K., Koh, W. G., Deister, C., et al., “Fabrication of Poly(ethylene glycol) Hydrogel Microstructures Using Photolithography,” Langmuir, Vol. 17, pp. 5440-5447, 2001.
Choi, Y. K., Zhu, J., Grunes, J., Bokor, J., and Somorjai, G. A., “Fabrication of Sub-10-nm Silicon Nanowire Arrays by Size Reduction Lithography,” The Journal of Physical Chemistry, Vol. 107, pp. 3340-3343, 2003.
Ahn, S. W., Lee, K. D., Kim, J. S., Kim, S. H., Park, J. D., et al., “Fabrication of a 50nm Half-Pitch Wire Grid Polarizer Using Nanoimprint Lithography,” Nanotechnology, Vol. 16, No. 9, pp. 1874-1877, 2005.
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