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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
Yeonwon Kim (Mokpo National Maritime University)
저널정보
한국마린엔지니어링학회 Journal of Advanced Marine Engineering and Technology (JAMET) 한국마린엔지니어링학회지 제44권 제3호
발행연도
2020.6
수록면
218 - 222 (5page)
DOI
10.5916/jamet.2020.44.3.218

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We investigated the correlation of the slope of the Si* intensity versus the SiH* intensity with the Si cluster volume fraction. The light emitted from the plasma was analyzed using optical emission spectroscopy. The deposition rates with cluster and those of without clusters were measured using quartz crystal microbalances installed in the plasma reactor. The silicon cluster volume fraction was derived by comparing the resulting deposition rates with cluster and without clusters. The results showed that the slope of the Si* intensity versus SiH* intensity varied depending on the reaction conditions and was roughly correlated with the silicon cluster volume fraction. Therefore, this simple spectroscopic comparison could be used as an indicator of cluster incorporation into thin films.

목차

Abstract
1. Introduction
2. Experimental method
3. Results and discussion
4. Conclusion
References

참고문헌 (22)

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