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저자정보
송근수 (금영이엔지) 김춘식 (티엔지) 정동호 (청남공조) 김영규 (청남공조) 양지석 (청남공조) 황준영 (한국생산기술연구원) 이건형 (삼성디스플레이) 유경훈 (한국생산기술연구원)
저널정보
대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2024년 학술대회
발행연도
2024.11
수록면
2,074 - 2,078 (5page)

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CFD numerical analysis was conducted to predict the gas flow field and particle trajectory in a semiconductor manufacturing cleanroom model under the turbulent flow field using a low Reynolds number - turbulence model. In particular, the air streamline and particle trajectory distributions in the return shaft and upper plenum of the cleanroom were observed in detail to analyze the evaporation available times acquired by the water droplets sprayed from the lower space of the return shaft near the DCC. The present numerical results showed that the available evaporation time appeared to be much longer than expected.
#반도체 클린룸(Semiconductor cleanroom) #전기클린룸(Electric cleanroom) #리턴샤프트(Return shaft) #난류유동장(Turbulent flow field) #수액적(Water droplet) #입자궤적(Particle trajectory)

목차

Abstract
1. 서론
2. 수치해석
3. 결과 및 검토
4. 결론
참고문헌

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