지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
I. 서론
II. 시뮬레이션 방법
III. 결과 및 논의
IV. 결론
REFERENCES
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
원자층 식각기술
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
ICP 식각 공정에서의 컨택홀의 기울어진 식각 프로파일
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
저손상 식각 기술을 이용한 초미세 패턴의 식각 프로파일 향상에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
고종횡비 식각 공정에서 Edge Ring에 의한 이온 Tilting 모사 및 식각 Profile 분석 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
다양한 etch gas를 이용한 자성 박막의 식각특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
펄스 플라즈마 식각을 통한 실리콘 나노구조의 식각 특성 향상
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Ar/C₄F6/O₂Pulsedtriplefrequency의 식각 메커니즘 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
C4F8/Ar 플라즈마를 이용한 SiO2 원자층 식각에서 활성종 구성 비율에 따른 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
유도결합 플라즈마 식각 장치에서 소스 및 바이어스 전력에 따른 식각 속도 분포 변화
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
C₃H₂F₆ Isomer를 이용한 Dielectric 식각 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
Multi-crystalline Silicon Solar Cell with Reactive Ion Etching Texturization
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Cryogenic Etching in Advanced Electronics Manufacturing: Applications and Challenges
Applied Science and Convergence Technology
2024 .09
축전 결합형 C₄F₈/Ar 플라즈마 내에서 웨이퍼 두께에 따른 쉬스 렌즈 효과 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
삼불화질소의 플라즈마 반응성 이온 식각 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
C₃F6O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
펄스 플라즈마를 이용한 나노구조체의 식각 특성 향상을 위한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Pulsed Inductively Coupled Plasma를 이용한 Si nanostructure 식각 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Plasma 시스템을 이용한 MoS2 나노박막의 합성 및 식각
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
플라즈마 식각 공정 챔버내의 부품 식각률 감소를 위한 전처리 기술
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
0