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논문 기본 정보

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학술저널
저자정보
김강삼 (한국생산기술연구원) 조용기 (한국생산기술연구원)
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제43권 제3호
발행연도
2010.6
수록면
127 - 131 (5page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

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Adhesion of DLC film is very significant property that exhibits wear resistance, chemical inertness and high hardness when being deposited to metal substrate. This study was considered that change adhesion of DLC film produced by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition can be presented through inserting interlayer (Cr, Si-C:H). The thickness of interlayer was result of changing adhesion and residual stress. It was showed that the maximum 12 N of adhesion is on DLC film of Cr interlayer, and that a tendency is to be increased residual stress depend on the thickness. DLC film of Si-C:H interlayer represented 16 N of adhesion at 1 μm, whereas adhesion is decreased when the thickness is increased. For the interlayer at multi-layer, it was the best that adhesion of Cr/Si-C:H/DLC film was 33 N. Si-C:H interlayer at DLC film controled adhesion of the whole film. It was relaxed the internal stress of DLC film produced by inserting Cr, Si-C:H interlayer.

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 실험 결과 및 고찰
5. 결론
참고문헌

참고문헌 (20)

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