Parametric Study for a Diffraction Optics Fabrication by Using a Direct Laser Lithographic System

김영광; 이혁교; 김영식; 이윤우

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저자정보: 김영광 (과학기술연합대학원대학교) 이혁교 (과학기술연합대학원대학교) 김영식 (과학기술연합대학원대학교) 이윤우 (과학기술연합대학원대학교)

저널정보: Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering Vol.33 No.10

발행연도: 2016.10

수록면: 845 - 850 (6page)

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A direct laser lithography system is widely used to fabricate various types of DOEs (Diffractive Optical Elements) including lenses made as CGH (Computer Generated Hologram). However, a parametric study that uniformly and precisely fabricates the diffractive patterns on a large area (up to 200 mm X 200 mm) has not yet been reported. In this paper, four parameters (Focal Position Error, Intensity Variation of the Lithographic Beam, Patterning Speed, and Etching Time) were considered for stabilization of the direct laser lithography system, and the experimental results were presented.

#Direct laser lithographic system (레이저 직접 노광기) #Laser lithography (레이저 리소그라피) #Diffractive Optical Element (회절광학소자)

참고문헌 (12)

참고문헌 신청

Haruna, M. / 1990 / Laser Beam Lithographed Micro-Fresnel Lenses / Applied Optics 29(34):5120~5126

Gale, M. T. / 1994 / Fabrication of Continuous-Relief Micro-Optical Elements by Direct Laser Writing in Photoresists / Optical Engineering 33(11):3556~3566

Zhou, P. / 2007 / Coupling of Surface Roughness to the Performance of Computer-Generated Holograms / Applied Optics 46(26):6572~6576

Rhee, H.-G. / 2010 / Improvement of Linewidth in Laser Beam Lithographed Computer Generated Hologram / Optics Express 18(2):1734~1740

Tiziani, H. J. / 2001 / Testing of Aspheric Surfaces / Proc. of International Society for Optics and Photonics in International Symposium on Optical Science and Technology :109~119

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