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플라즈마 진단을 위해 개발한 전원장치 특성 연구
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량뮤어 프로브 진단 기술
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ICP etching 시스템의 RF bias 전극에서 측정된 전기적 특성과 공정변수와의 상관관계
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광 센서를 이용한 공정 진단법
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SiO₂ 원자층 식각에서 인가 전력 공정 윈도우와 플라즈마 활성종 간 상관관계
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유도 결합형 플라즈마 공정조건 변화에 따른 플라즈마 방전과 전자기장 시뮬레이션의 비교
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