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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2017.1
- 수록면
- 1,019 - 1,026 (8page)
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The structural properties of HfO2 films could be improved by calibrating the working pressure owing to the enhanced quality of a thin film. We deposited HfO2 films on glass substrates by radio frequency (RF) magnetron sputtering under a base vacuum pressure lower than 4.5×10-6 Pa, RF power of 100W, substrate temperature of 300°C. The working pressures were varied from 1mTorr to 15mTorr. Subsequently, their structural and optical properties were investigated. In particular, the HfO2 film deposited at 1mTorr had superior properties than the others, with a crystallite size of 10.27nm, surface roughness of 1.173nm, refractive index of 2.0937 at 550nm, and 84.85% transmittance at 550nm. These results indicate that the HfO2 film deposited at 1mTorr is suitable for application in transparent electric devices.
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C. Y. Ma / 2013 / Structural, morphological, optical and photoluminescence properties of HfO2 thin films / Thin Solid Films 545 : 279 ~ 284
G. D. Wilk / 2001 / High-k gate dielectrics: Current status and materials properties considerations / J. of Applied Physics 89 (10) : 5243 ~ 5275
H. Zhao / 2017 / The structure and mechanical properties of magnetron sputtered VSiN coatings / Surface Engineering 33 (8) : 585 ~ 591
J. Ni / 2008 / Oxygen defect induced photoluminescence of HfO2 thin films / Applied Physics Letter 93 : 011905-1 ~ 011905-3
Jong-Chan Park / 2016 / Structural and Optical Properties of HfO2 Films on Sapphire Annealed in O2 Ambient / 한국세라믹학회지 53 (5) : 563 ~ 567
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