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논문 기본 정보

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학술저널
저자정보
박규진 (금오공과대학교 기계공학과) 양진오 (LG화학) 이재종 (한국기계연구원) 곽호상 (금오공과대학교 기계시스템공학과)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 반도체디스플레이기술학회지 반도체디스플레이기술학회지 제15권 제2호
발행연도
2016.1
수록면
74 - 80 (7page)

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This study presents a thermal device specially designed for thermal nanoimprint lithography equipments, which requires the capability of rapid heating and cooling, high temperature uniformity and the material strength to endure high stamping pressure. The proposal to meet these requirements is a planar-type hot plate extensible to a large area, in which long circular cartridge heaters and heat pipes are installed inside in parallel. The heat pipes are connected to the outside water cooling chamber. A hot plate made of stainless steel is fabricated with a dimension $240mm{\times}240mm{\times}20mm$. Laboratory experiments are conducted to examine the thermal performance of the hot plate. The results illustrate that the employment of heat pipes leads to a notable enhancement of temperature uniformity in the device and provides an efficient heat delivery from the hot plate to outside. It is verified that the suggested hot plate could be a feasible thermal tool for thermal nanoimprint lithography, satisfying the major design requirements.

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