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한양대학교 세라믹공정연구센터 Journal of Ceramic Processing Research Journal of Ceramic Processing Research 제20권 제4호
발행연도
2019.1
수록면
418 - 423 (6page)

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Titanium dioxide (TiO2) thin films were deposited on Si(100) substrates with RF magnetron sputtering, and variations of their structural and surface characteristics with sputtering process condition were investigated. TiO2 films were grown as a polycrystalline state with mixed phase of anatase and rutile at room temperature. The grain size and surface roughness decreased with increase of O2 gas molar ratio in ambient mixed gas of Ar and O2 during film deposition. XPS results showed the chemical state and stoichiometry did not strongly depend on Ar/O2 ratio in ambient gas. The water contact angle of the film surface became larger as the grain size and surface roughness of the film decreased. It is considered that hydrophilicity of the TiO2 film depend mainly on surface morphology and roughness rather than crystalline structure and chemical state of the film.

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