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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2023.12
- 수록면
- 283 - 288 (6page)
- DOI
- 10.5370/KIEEP.2023.72.4.283
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In this paper, a UV LED-based light source device for wafer edge exposure was developed. In the light source device for edge exposure, a UV LED light source and a heat dissipation design for lens and heat dissipation are essential to improve light output concentration. As a result of the simulation according to the lens material and type, the use of three types of silicone lenses showed superior results than the use of glass lenses. In addition, an aluminum light source module was developed through experiments on various heat dissipation models. As a result of measuring the gray zone to evaluate the usefulness of the developed edge exposure light source module, it can be seen that it shows sufficient performance as an exposure light source. We intend to continuously evaluate reliability by installing a light source module for edge exposure developed in the future at the site.
목차
Abstract
1. 서론
2. 광출력 향상을 위한 렌즈 설계
3. 엣지 노광용 광원 모듈 개발
4. 결론
References
참고문헌 (9)
참고문헌 신청
Park, Hyeoung Woo, Kim, H. J., Roh, Ji Hyoung, Choi, Jong-Kyun, and Cha, Kyoung-Rae, “Simple and Cost-Effective Method for Edge Bead Removal by Using a Taping Method,” JKPS, vol. 73, no. 10, 2018.
In-Deok Kim, “A Study on the Performance of Optical System and Heatsink for UV LED Stepper,” master's thesis, Korea Polytechnic University, 2019.
Chen-Fu Chien, Shao-Chung Hsu, Jing-Feng Deng, “A cutting algorithm for optimizing the wafer exposure pattern,” IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, vol. 14, no. 2, 2001.
Chung-Yeon Lee, Dae-Jong Lee, and Myung-Geun Chun., “Development of edge exposure controller based on UV LED with illumination compensation function,” KIEEP vol. 69, no. 12, p. 229-234, 2020.
S. H. Hyun, D. -H. Cho, W. S. Park, and T. J. Kim, “Vision based EBR Metrology for Edge Bead Removal Optimization,” IEEE International Symposium on the Physical and Failure Analysis of Integrated Circuits (IPFA), pp. 1-5, 2020.
In-Deok Kim, “A Study on the Performance of Optical System and Heatsink for UV LED Stepper,” master's thesis, Korea Polytechnic University, 2019.
Chen-Fu Chien, Shao-Chung Hsu, Jing-Feng Deng, “A cutting algorithm for optimizing the wafer exposure pattern,” IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, vol. 14, no. 2, 2001.
Chung-Yeon Lee, Dae-Jong Lee, and Myung-Geun Chun., “Development of edge exposure controller based on UV LED with illumination compensation function,” KIEEP vol. 69, no. 12, p. 229-234, 2020.
S. H. Hyun, D. -H. Cho, W. S. Park, and T. J. Kim, “Vision based EBR Metrology for Edge Bead Removal Optimization,” IEEE International Symposium on the Physical and Failure Analysis of Integrated Circuits (IPFA), pp. 1-5, 2020.
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