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논문 기본 정보

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저자정보
저널정보
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제28권 제5호
발행연도
2015.1
수록면
300 - 305 (6page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2015

플라즈마 식각처리 유무에 따른 산화물 박막의 광촉매 표면 특성 분석
이창현 ,  진익현 ,  최명규 외 5명 한국진공학회 학술발표회초록집 2015.02 학술대회자료
플라즈마 에칭공정에 따른 산화물 박막의 광촉매 표면 특성
이창현 ,  김화민 ,  서성보 외 3명 전기전자재료학회논문지 2015.01 학술저널

초록· 키워드

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본 연구에서 친수 특성을 갖는 WO3, SiO2, TiO2 박막들은 rf-magnetron sputtering에 의해 증착되었다. 박막들의 젖음성은 유리기판 위에 산소 플라즈마 에칭 유무에 따라 강하게 의존한다. 플라즈마 에칭된 유리기판위에 50 nm 두께의 TiO2 박막은 초 친수성 표면인 5° 이하의 접촉각을 나타내었다. 그러나 이러한 접촉각 값들은 박막들이 대기 중에 노출되었을 때, 특히 WO3 박막은, 서서히 저하된다. 친수 특성을 향상시키기 위해서, 저하된 박막들은 UV 빛을 이용해 10초 동안 조사할 경우 다시 회복될 수 있으며 특히, TiO2 박막은 약 3°의 초친수 표면을 보여주었다.
#Super-hydrophilic #Water contact angle #Plasma etching #UV illumination #Roughness factor

목차

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A. Opitz / 2007 / / J. Appl. Phys 101 : 064310 ~ google schola C. C. Sun / 2000 / / J. Mol. Catal. A 151 : 133 ~ google schola C. Shifu / 2009 / / Chem. Eng., J 148 : 263 ~ google schola D. G. Cahill / 1994 / / Appl. Phys. Lett 65 : 309 ~ google schola D. Ke / 2008 / / Mater. Lett 62 : 447 ~ google schola

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